虽然28纳米的光刻机即将实现国产化，据说可以通过多重曝光的工艺，来实现14纳米或7纳米的芯片制造。 中芯国际使用荷兰ASML的DUV 14纳米的光刻机，目前用“N+1”、“N+2”的工艺都没能实现7纳米芯片量产，所以基于工艺和成本28纳米光刻机很难实现更低制程芯片的制造。 目前上海微电子的光刻机已可以应用于集成电路产业链中晶圆制造、封装测试，以及平板显示、高亮度 LED 等领域。 资料显示，上海微电子直接持有各类专利及专利申请超过2400项。 2022年7月7日，上海微电子装备举行了首台2.5D/3D先进封装光刻机的交付仪式，但该机器是用于芯片下游制造的先进封装光刻机，并非此前关注的用于芯片上游制造的光刻机。
据悉，上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商，从低端切入各个细分市场，现已成为封测龙头企业的重要供应商，国内市场占有率高达80%，全球市场占有率也有40%，同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先，LED光刻机市占率第一。 方正证券提到，实现光刻机的进口替代并不是某一企业能够单独完成的，需要光刻产业链的顶尖企业相互配合。 光刻产业链可拆分为两个部分，一是光刻机核心组件，包括光源、物镜、双工作台、浸没系统等关键子系统，二是光刻配套设施，包括光刻胶、光掩模版、涂胶显影设备等。 有资深半导体行业人士表示，传统的封装过程用不到光刻机，只有晶圆级的先进封装才会用到光刻机。
上海微電子28nm光刻機: 上海微电子年底前将推出28nm光刻机？
可以說，中國的中高端光刻機市場一直都是被這三家國外廠商所壟斷。 技术先进的EUV光刻机不给中国大陆的厂商，连技术成熟的DUV光刻机也优先给台积电和三星，无奈之下中国企业不得不大举采购二手光刻机。 实际上我们的进步，ASML这些光刻机巨头也是看在眼里的，它们的内心也会着急，担心一旦我们技术突破追赶上来，它们或将失去大量的市场。 所以ASML最近也频频主动示好，包括在国内投资售后工厂、与中芯国际达成了延长采购协议、努力寻求向中芯国际出货EUV光刻机，等等。 注意：这里说的“28nm光刻机”并不是准确说法，虽然网上很多人这么叫，其实际指的是可以被用于28nm芯片制造的光刻机，但准确说法应该是193nm ArF浸润式光刻机，多次曝光甚至可以支持7nm芯片制造。 RCEP形成的全球最大的单一贸易圈对当下的欧洲，吸引力无疑是巨大的，中国有很多策略可以运用。
上海微电子党委书记、董事长干频在致辞中表示，本次发运的国内首台2.5D/3D先进封装光刻机，是量产封装光刻机的一次全面升级，具有更高分辨率、更高套刻精度、更大曝光面积，将助力客户实现芯片的异构集成，以相对较低的成本实现芯片系统的性能提升。 国内光刻机行业的发展，不仅仅需要上海微电子单方面的努力，国内的其他提供光刻机重要零部件的公司也需要跟上进度，才能保证国内光刻机技术能够得以顺利发展，早日实现国内芯片自给自足。 上海微電子28nm光刻機 但是，有一个关键的问题，华为的手机产品使用的芯片为7纳米，而这类尺寸的芯片只能依靠ASML的EUV光刻机（7纳米）来量产。 此前的资料显示，该光刻机的光源激光系统、浸没式双工作台、浸液系统、透镜及曝光系统都已实现了国产化（由不国内相关供应商提供），上海微电子则负责控制系统和总装。
上海微電子28nm光刻機: 上海微电子28nm光刻机明年交付，国产集成电路走了一小步
这里需要指出的是，北京科益虹源光电是中国唯一、世界第三家具备高端准分子激光技术研究和产品化的公司，同时也正是上海微电子的光刻机的光源系统的供应商。 也就是说，通过上面的这则新闻，我们基本可以确认，今年科益虹源承担的“02重大专项”研发的浸没光刻光源就将与上海微电子共同完成28nm国产光刻机的集成。 目前上海微电子封装光刻机已实现批量供货，成为长电科技、日月光、通富微电等封测龙头的重要供应商，并出口海外市场，在国内市场占有率高达 80%，全球市场占有率达 40%。 同时公司 300 系列光刻机可以满足 HB-LED、MEMS 上海微電子28nm光刻機 和 Power Devices 等领域单双面光刻工艺需求，占有率达到 20%左右。 荷兰阿斯麦是全球唯一一家高端光刻机制造商，每年仅出20台左右高端设备，每一台都被台积电和三星等大型芯片代工厂抢破了头。 该公司日前已经推出了一种全新的半导体技术第一代HMI多光束检测机，可用于5nm及更先进制程工艺，有望让5nm芯片产能暴涨600%。
- 2017 年 ASML 上述三种机型出货量总计为101 台，市场份额占比为 78.29%，到 2018 年 ASML 出货量增长到 120台，市场份额约 90% 。
- 目前最先进的 EUV 设备在2018 年单台平均售价高达 1.04 亿欧元。
- 不過，對於上海微電子11nm光刻機將於年底下線傳聞，目前並未有相關的資訊進行印證。
- 一台光刻机包含数万的零配件和多项顶尖技术，这决定了光刻机是一个需要全球合作才能成功的工业产品。
- 其中ASML份额最高，达到67.3%，且垄断了高端 EUV 光刻机市场。
- 这也意味着，用于28nm和14nm芯片生产的光刻机都已经造出来了，只不过成品率还没有达到预期，还在完善和提升中。
- 不过WP7贴吧用户@jinshandage表示，之前有内部前员工爆料，由于内部管理问题，上微老的骨干基本走光。
并且表示,这台设备能够用于制造48nm-28nm芯,另外还表示到2023年,上海微电子的光刻技术,将用于制造20nm的5G芯片。 也许这个事儿是真的，但为什么华为就对人才有那么大的吸引力？ 说白了一方面华为的待遇领先全行业，人均69万年薪的公司真没几个人能比的过，另外一方面恐怕在上海微电子难以实现芯片量产才是重要的原因，自己的心血没办法实现，干的不开心，跳槽也是正常情况。
上海微電子28nm光刻機: 生产最新12nm芯片，三星逆势计划新增10台EUV光刻机
上海微電子28nm光刻機的突破來自國內背後強大的半導體產業鏈供應商，有北京科益虹的光源系統、國望光學的鏡頭、華卓精科的浸入式雙工作台、浙江啟爾機電的浸液系統等等。 上海微電子和荷蘭ASML都是系統集成商，關鍵零部件多數來自第三方企業，並不是完全由自己生產。 荷蘭ASML最先進的EUV光刻機，90%的關鍵零部件都需要進口。 其中，計量設備和光源來自美國、鏡頭和精密儀器來自德國、軸承來自瑞典等等。 可是這些精密儀器和配件均對我國禁運，也就是說，上海微電子要製造28納米的光刻機，需要等待國內供應鏈的成熟。
而封裝光刻機對於光刻的精度要求低於前道光刻要求，面板光刻機主要用在薄膜電晶體製造中，與 IC 前道光刻機相比技術難度更低。 而在目前的光刻機市場，ASML、Canon 以及Nikon 是最大的三家供應商，佔據了全球99%的市場。 其中ASML 在高端市場一家獨大，且是全球唯一的EUV 光刻機供應商。
上海微電子28nm光刻機: 技术学院
上海微電子的光刻機從90納米到28納米，歷經13年時間才實現三代(60nm、45nm、40nm)技術的跨越，為何如此艱難？ 有兩方面的原因：一是，以美國為主導與多國共同簽訂的《瓦森納協定》中規定，高端設備或尖端技術對我國進行出口管控或技術封鎖；二是，我國半導體產業因起步晚，產業配套技術不完善。 ASML并没有停止DUV光刻机在中国的交付，但是交付的速度确实也不快。 趁着完全独立自主的中国28nm光刻机推出前的这段时间，赶紧多卖给中国更多DUV，对于ASML来说，反而是一箭双雕的好事。 2020年，ASML向中国大陆市场交付的光刻机大约是46台。 2021年一季度向中国市场交付11台光刻机，而且就在2021年一季度，中芯国际还与ASML续签了超过12亿美元的光刻机大单。
而ASML已经量产7纳米制程EUV光刻机，至少存在着十几年的技术差距。 另外，长江存储今年也从ASML买入一台浸润式光刻机，售价高达7200万美元。 紫光在2013年7月至2015年6月，完成展讯通信、锐迪科微电子两起并购，并收购了惠普旗下新华三集团的51%股权；同时，长电科技、国有企业建广资产管理公司也陆续发起了芯片相关收并购。 如今，中芯国际仍然是中国市场上规模最大、制程最先进的芯片制造厂商，不过，如果以中芯近期传出将于2019年下半年量产14nm工艺制程的消息看，这仍比台积电正在试产5nm制程的水平落后2代。
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而目前在光刻机领域，主要被荷兰ASML、日本佳能和尼康所垄断，三家厂商合计占据了约99%的市场份额。 其中 ASML 在高端光刻机市场一家独大，并且是目前唯一一家能够供应EUV光刻机的厂商。 早在2002年，光刻机就被列入国家863重大科技攻关计划，上海微电子装备有限公司也由此成立。 观察者网之前报道过，富士康与青岛国资合资设立的半导体封测项目，2021年7月便已开始引进上海微电子封装光刻机。 该项目实施主体青岛新核芯科技曾发文指出，光刻机为半导体产业封装厂及晶圆厂关键设备，在如今世界局势的瞬息万变中，新核芯采用国产光刻机，确保将依此稳定生产提高产能。
其中， SSX600系列用於IC上游製造，最先進可以用於90nm晶片的製造，而SSX500系列則用於IC下游製造，即先進封裝。 专注于半导体、手机产业链、人工智能、生物识别、汽车电子等相关领域的行业资讯报道。 在市场恐惧时中国芯企业/产业资本该本文将讨论近期巴菲特在目前的金融市场环境中入手台积电，给企业资本和产业资本为整合资源和各地方政府建设半导体产业生态带来的启发。 一般来讲，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。 只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
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ASML CEO Peter Wennink最新接受媒体采访时透露，他们正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备，而高NA 上海微電子28nm光刻機 EUV光刻机系统的单台造价将在25亿元(单台造价在3亿到3.5亿欧元之间，约合人民… 雖然28納米的光刻機即將實現國產化，據說可以通過多重曝光的工藝，來實現14納米或7納米的晶元製造。 中芯國際使用荷蘭ASML的DUV 14納米的光刻機，目前用「N+1」、「N+2」的工藝都沒能實現7納米晶元量產，所以基於工藝和成本28納米光刻機很難實現更低製程晶元的製造。 詹凯表示，BIS之前已将73个中国实体列入“未经核实清单”。 若BIS能够对被列入清单的外国实体完成核查，从而核实该等外国实体的“善意”，BIS将做出决定并将该等外国实体从清单中移除。
2021全年，ASML向中国市场的光刻机交付大概也在四、五十台。 虽然28nm比起国际顶尖工艺还有几代的差距，但作为纯国产的光刻机，从90nm到28nm这个进步已经不是飞跃能形容的了。 相信大家都知道，世界上顶尖的芯片制造厂如今的主流技术已经到达了7nm级工艺，正在向着5nm前进。 面對光刻機遲遲不能發貨，我們也隻剩下一條路可以走，那就是走技術自主研發的道路，面對歐美國傢的技術限制，導致瞭華為的麒麟芯片停產，中芯國際訂購的EUV光刻機，至今也沒有傳出任何出貨的消息，這也直接阻礙瞭國內先進制程工藝的發展。 负责液浸系统的启尔机电也很顺利，2019年底刚通过了02专项的CDR里程碑评审，研发和试产基地也完成了建设，目前是全世界第三家。 最近的一次在11月6日的上海进博会上，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波，他表示向我国出口集成电路光刻机持开放态度，在法律法规框架下全力支持。
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本次制裁名单中包括俄罗斯最大的芯片制造商和微电子制造、出口商米克朗（Mikron）。 此外，X射线光刻机相比现在的EUV光刻机还有一个优势，那就是不需要光掩模版，可以直写光刻，这也节省了一大笔费用。 正因为有这么两个特点，俄罗斯要研发的X射线光刻机优势很大，甚至被当地的媒体宣传为全球都没有的光刻机，ASML也做不到。 IC 前道光刻机技术最为复杂，光刻工艺是 IC 制造的核心环节也是占用时间比最大的步骤，光刻机是目前晶圆制造产线中成本最高的半导体设备。 根据格罗方德的数据显示，光刻设备约占晶圆生产线设备成本 27%，光刻工艺占芯片制造时间 40%-50%。
在制造过程中，通过投射光束，穿过掩膜板和光学镜片照射涂敷在基底上的光敏性光刻胶，经过显影后可以将电路图最终转移到硅晶圆上。 在经历了中兴事件之后，深深让国人感受到了中国在半导体芯片领域的薄弱，而此次美国升级对华为的制裁，更是让国人认识到了中国在芯片制造设备领域的薄弱。 在物镜系统研发方面，主要由中科院长春光机所（现北京国望光学）负责。
上海微電子28nm光刻機: 半导体材料行业研究报告
在中美科技战、贸易战的背景之下，中国半导体产业被美国“卡住了脖子”，而这其中最为关键的一环就是半导体设备，华为就是因为台积电、中芯国际等晶圆代工厂被美国禁止利用基于美国技术的半导体设备为华为代工，直接导致了华为自研芯片的断供。 今年7月，青岛新核芯科技有限公司半导体高端封测项目举行机台进场仪式，一台上海微电子的封装光刻机也正式搬入。 也就是说，目前上海微电子最先进的SSA600系列光刻机只能用于90nm制程的芯片制造。 截至发稿，上海微电子尚未对被列入UVL清单一事做出回应。
上海微電子28nm光刻機: 科技要闻
虽然中芯国际等少数晶圆代工厂已经能够量产28/14nm工艺，但是其制造产线上的半导体设备仍严重依赖于美国。 6、特斯拉上海工厂推迟复工，产能损失约 1.5 万辆 据新浪科技报道，特斯拉进一步推迟上海工厂复工，将不会在4月2日恢复生产。 此前，特斯拉计划在3月28日起暂停其位于上海的超级工厂生产活动，原计划为停产4天（3月28日至4月1日）。
上海微電子28nm光刻機: 上海微电子即将交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机
事实上EUV光刻机的出现，确实是帮助业界突破7nm制程的一个关键。 光刻技术是利用光学复制的方法把超小图样刻印到半导体薄片上来制作复杂电路的技术，所以光的应用是整个刻划技术的关键。 而光也有很多种，按光的波长来划分有可见光、红外光、激光、紫外光、X光等。