不過既然在美國限制的情況下我國還能突破部分光刻機技術，甚至還能建立起自己的生產鏈，已經引起了ASML等公司的顧慮了。 從其關鍵參數和介紹來看，其光源波長為193nm，水準大致相當於 ASML DUV 曝光機的水準。 上海微電子光刻機 不過，依照 ASML、Nikon、佳能三家公司的官方數據整理得知，去年全球曝光機總銷售量為413台。 其中 ASML 銷售258台佔比62%，佳能銷售122台佔比30%，Nikon 銷售33台佔比8%。 按照銷售額來計算的話，因為最昂貴的 EUV 只有 ASML 製造銷售，所以總的市佔率依次是91%、3%、6%。
有交易員指，美國1月通脹率6.4%超出預期，加上之前公布的就業數據非常強勁，市場預期聯儲局緊縮周期可能延長，美元指數反覆上升，預料短期人民幣受壓。 所以國內雖然在技術上做出了許多突破，但是人們要認清楚整個技術的流程，了解完整的進度，這樣才能在得知好消息之後才能了解真實情況。 光刻機按照用途可以分為前道光刻機和後道光刻機，前道光刻機按照光源折射程度可以分為EUV、DUV、UV等，並且採用的有光學、物鏡、控制、雙工件等主要技術。
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其中，光刻机是半导体设备中技术壁垒最高的设备，其研发难度大，但价值量占晶圆制造设备中的30%。 在封测环节使用的设备被称为后道工艺设备，可分为测试设备和封装设备。 上海要加快建設具有全球影響力的科技創新中心，需要一大批引領科技產業前沿、掌握關鍵核心技術的創新型企業。
雖然半導體設備產業的相對體量不大，但它有成百上千倍的放大作用。 半導體產業具有「一代設備、一代工藝和一代產品」的行業特點。 毫不含糊地講，若沒有半導體設備，就沒有半導體芯片，就沒有信息時代。 我國中科院正式官宣，在EUV光刻機國產化領域正在一步步走向破冰，阿斯麥爾距離被拋棄的日子，估計也是不遠了。 上海微電子光刻機 不過，這恐怕對於阿斯麥爾的影響不會很大，阿斯麥爾在光刻機領域的壟斷地位，可能仍舊還要存在很長一段時間。
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文章裡提到，到2020年產品將與整機單位共同完成28nm國產光刻機的整合工作。 Peter 上海微電子光刻機 Wennink去年4月就曾公開表達焦慮，指出口管制將加快中國自主研發，「15年時間裏他們將做出所有的東西」，又指中國完全自主掌控供應鏈之後，歐洲供應商將徹底失去市場。 大陸面板龍頭京東方「聯姻」光刻膠龍頭阜陽欣奕華，這件投資案的背後，反映了中國半導體產業面對歐美寡頭壟斷格局，掀起了一股國產化替代的浪潮。
之前有網友爆料，上海微電子將於2020年12月下線首臺採用ArF光源的SSA800/10W光刻機，這是一臺國產浸沒式 DUV 光刻機，可實現單次曝光28nm節點。 目前，台積電等生產7nm-5nm製程的晶片採用的都是0.33 NA EUV光刻機，阿斯麥正在研發的0.55 NA光刻機每台售價約為3億美元（約合23億港元），比0.33 NA光刻機售價高出一倍。 對中共芯片產業來說，荷蘭參與制裁毫無疑問是毀滅性的打擊，缺乏ASML等美國以外供應商的設備，中共芯片自給自足幾乎是不可能的任務。
上海微電子光刻機: 陸國產晶片將以28nm為新起點 技術差距雖大卻已看到希望
所以目前無論是 Nikon 還是佳能都無法對 ASML 構成威脅。 ASML 的光源來自於美國Cymer，光學模組來自德國蔡司，計量設備來自美國，但屬於德國科技，它的傳送帶則來自荷蘭VDL集團。 一台光刻機90%零件都是透過全球採購，當中涉及到4個國家十多家公司，而下遊客戶的利益也與 ASML 牢牢捆綁。 上海微電子光刻機 因為目前的晶片都還是矽基晶片，歷經大半個世紀的發展，從最初的電子管到電晶體，再到內建電路的發明，電晶體的關鍵尺寸一步一步縮小，而在奈米等級的尺度進行電路雕刻，目前我們所掌握的技術只有曝光。
在193nm浸没式光刻机所需光源系统方面，主要由中科院光电研究院负责准分子激光光源系统研发，由北京科益虹源负责产业转化。 科益虹源也承担了“02重大专项浸没光刻光源研发”、“02重大专项核心零部件国产化能力建设”、“02重大专项集成电路晶圆缺陷检测光源”项目。 有消息显示，此前国产40W 4kHz ArF光源已经交付，不过“28nm光刻机”所需的60W 6kHz ArF光源似乎仍在研发攻关当中。 从目前来看，如果上海微电子的“28nm光刻机”确实遭遇了难题，那么除了上海微电子自身的系统集成问题之外，浸润单元或者关键子系统可能也没完全准备好。 上海微電子光刻機 相比之下，中国虽然也有自己的国产光刻机厂商——上海微电子装备股份有限公司（SMEE），但是由于起步晚，再加上国外的技术封锁，使得其在技术上与国外存在着较大差距。
上海微電子光刻機: 京東方聯姻光刻膠龍頭欣奕華 大陸半導體業吹起反攻號角？
消息指，蘋果一直在從美國加州和中國派遣產品設計師及工程師前往印度南部的工廠，培訓當地人並協助建立生產線。 上海微電子光刻機 儘管蘋果自2017年以來一直於印度生產入門型號的iPhone，但去年開始在當地生產旗艦iPhone，投產至出貨時間只遲中國工廠數周，被視為收窄間距。 報導援引一名知情人士報導，蘋果在印度南部一間由塔塔集團（Tata Group）經營的外殼工廠，生產線上只有大約一半的零件狀態良好，可以送往蘋果的供應商富士康。 報導指，與蘋果的「零缺陷」目標相比，這個僅達到50%的「良品率」屬於表現欠佳。 據兩名曾在蘋果海外業務部門任職的人士表示，該工廠正在制定提高熟練度的計劃，但前路漫漫。 據《彭博》報道，荷蘭半導體光刻機製造商艾司摩爾公布，有一名在中國的前員工涉嫌盜取公司專利技術的數據，可能違反出口管制措施，未知被盜取數據是否涉及光刻機開發。
- 市場調研機構CINNO Research分析師向觀察者網指出，目前瞭解到的信息是，國產光刻機研發難點中對進度影響最大的部分是光源和物鏡，分別來自北京的科益虹源和國望光學。
- AI強創新智慧聊天機器人ChatGPT所掀起的一波新經濟社會革命，正疾速衝向高科技經濟體臺灣而來，是機遇或是挑戰，也給予今日臺灣社會，…
- 目前产线中光刻机主要依赖于进口，以国内长江存储截至2020年2月的半导体设备采购招标结果为例，其光刻机全部来自于ASML 和佳能。
- 目前上海微电子的光刻机已可以应用于集成电路产业链中晶圆制造、封装测试，以及平板显示、高亮度 LED 等领域。
- 從阿斯麥公司出貨地來看，臺灣仍然是阿斯麥最大的客戶，去年4季度有51%的光刻系統往台灣發貨；韓國則是該公司第2大市場，同期有27%的光刻系統發往當地；中國大陸是阿斯麥第3大市場。
- 目前，中國半導體產業面臨被「卡脖子」等問題，並非只是簡單的光刻機技術發展慢的緣故，而是未形成一條完整的國產化半導體產業鏈，而這個需要國產半導體企業在國策的助力下努力一環一環攻克才行。
上海微電子，更廣為人知的名稱是SMEE，是中國唯一一家能夠生產用於高端半導體開發的先進光刻設備的中國公司，在中共芯片自給自足計劃中占據重要地位。 中國目前無法製造先進的晶片，例如用於最新智能手機的晶片，主要是因為中國無法生產最先進的光刻機，而該領域目前由荷蘭公司阿斯麥（ASML Holding）主導。 上海微電子，更廣為人知的名稱是SMEE，是中國唯一一家能夠生產用於高端半導體開發的先進光刻設備的中國公司，在中共晶片自給自足計劃中佔據重要地位。 雖然28納米的光刻機即將實現國產化，據說可以通過多重曝光的工藝，來實現14納米或7納米的晶元製造。 中芯國際使用荷蘭ASML的DUV 14納米的光刻機，目前用「N+1」、「N+2」的工藝都沒能實現7納米晶元量產，所以基於工藝和成本28納米光刻機很難實現更低製程晶元的製造。 先進集成電路大規模生產線的投資可達100億美元，75%以上是半導體設備投資。
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另外，2022年2月13日，根據ETNews報道，2019年到2021年，阿斯麥爾在美國的銷售額直接就是逐年下降，2019年有19。 83億，短短三年的時間，阿斯麥爾在美國的銷售額直接下降了20%。 也就是說，即便是在DUV光刻機上，ASML的產能遠遠不夠解決客戶的需求，溫寧克為此還特意指出，ASML只能滿足DUV光刻機需求的60%。
- 而在另一端，10奈米以下製程技術則非常尖端，行業玩家只剩下金字塔尖的台積電、三星和英特爾。
- 譬如，爐式設備、刻蝕設備、薄膜沉積設備市場中AMAT、TEL、LAM等國際大廠市場份額佔據過半，而國内能跟上步伐的僅有北方華創（爐式設備、刻蝕設備）跟沈陽拓荊（薄膜沉積設備）。
- 在大屏顯示上，LED顯示屏憑藉其高清的彩色顯示畫面、超強立體感、靜如油畫和動若電影特性，及其能夠廣泛與智能設備相結合的優勢廣泛應用於各個領域。
- 不过对于“上海微电子到底能不能做出28nm能力的DUV光刻机”这个问题，外界看法不一。
- 他指出，對於全球大型晶片製造廠商而言，28奈米晶片技術已經非常成熟，產能已有些過剩。
英國的工資繼續攀升，但未能跟上通脹的步伐，儘管這已是新冠肺炎疫情以來的最大升幅。 英國國家統計局（ONS）表示，在2022年10月至12月期間，不包括花紅在內的工資按年增長6.7%。 三星加碼晶圓廠投入，年內將在P4和德州工廠建設試產線。 據韓媒TheElec報導，三星計劃年底前在韓國平澤的P4工廠以及美國得州泰勒工廠建設新的試產線。 在這中間的每一項技術背後牽扯到的零件都是許多巨頭的存在，有各自完整的生產體系，所以想要在如此多的困境中走出一條新的道路真的太難太難了。 此次崑山同興達購買的光刻機有兩台，價格在1800萬元左右，並且類型為金凸塊封測光刻機，相比以前的技術提高了延展性等。
上海微電子光刻機: 國內的光刻機技術還需要多久？
中國半導體產業想站上世界之巅，面臨的路很難，也很漫長。 我們有理由相信，虛心學習，持之以恒，中國可以創造歷史。 以現如今的荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）為例，在2000年前，全球光刻機行業龍頭是被日本的尼康佔據，阿斯麥暫時未有技術實力與之博弈。 上海微電子光刻機 最近，譽有「半導體工業皇冠上的明珠」的光刻機，在二級市場火的一塌糊塗。 特别是7月20日首台國產SMEE光刻機（28納米）啓動搬遷入之後，整個光刻機板塊連續上漲，10個交易日不到板塊指數漲幅超10%。