資料顯示，僅2021年，中國的企業就向全球最大的光刻機生產企業、荷蘭的阿斯麥公司購買了81台DUV光刻機，而2022年一季度，ASML銷售的62台光刻機中，DUV占了59台，其中22台是賣給了中國。 华为算是吸纳优秀学校毕业生比较多的公司，在与其合作的时候，虽然经常被压迫，苦恼华为严密的信息保护的繁琐流程，但是与其研发人员沟通交流之顺畅，让人愉悦。 據上海微電子官微介紹，先進封裝光刻機是公司目前的主打產品，且已實現量產供應，目前在大陸國內封裝光刻機市占率達80%，海外市佔率達40%。
- 随着移动通信的飞速发展和应用，中国的手机行业也不断发展壮大，当然中国的手机用户也在迅猛增长。
- 据悉，上海微电子是此次招标中唯一一家中标工艺检测设备的厂商，相比而言，获得4台工艺检测设备对上海微电子的意义更为重大。
- 这足以说明上海微电子在特色技术和新兴产品方面还是有很大竞争力的，击败ASML获得4台订单就是最好的证据。
- 而在该领域内，ASML已经耕耘多年，结果在此次招标过程中，其依旧没有获得订单，4台订单均被上海微电子获得，这必然会促使其获得更多其它厂商的订单。
- 但实际上，上海微电子此次推出的并不是常说的用于芯片前道制造的光刻机，而是用于后道封装的光刻机，这种光刻机的研发门槛相对较低，市场空间也更小。
- 微影設備是利用光線的波長來加工精密尺寸的晶片，又稱蝕刻機、光刻機；波長不同效率差很大。
由于sinθ与镜头有关，提升需要很大的成本，目前sinθ已经提升到0.93，已很难再提升，而且其不可能大于1。 而ASML先进的EUV光刻机则拥有超过10万个零件，涉及到上游5000多家供应商。 这些零部件极为复杂，对误差和稳定性的要求极高，并且这些零件几乎都是定制的，90%零件都采用的是世界上最先进技术，85%的零部件是和供应链共同研发，甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数更可能高达百万次以上。 虽然与台积电和三星目前所采用的3nm相比较相对落后，但28nm制程技术仍被广泛使用。 这足以说明上海微电子在特色技术和新兴产品方面还是有很大竞争力的，击败ASML获得4台订单就是最好的证据。
上海微電子 duv: 上海微電子小躍進 新一代「先進封裝光刻機」交付
日本半导体设备大厂东京电子之前也曾表示，美国10月7日才公布的新规就直接导致了东京电子2022财年（截至2023年3月）来自中国大陆的营收目标减少了1250亿日元（约合人民币63.1亿元）。 如果看其2023年的整体营收，对比2022财年，预计将会受到更大影响。 此前资料显示，在2021年自然年度，东京电子来自中国大陆的营收占比最高，达到了27.5%。 除了东京电子、尼康之外，爱德万、迪恩士、日立高科、迪斯科（DISCO）等日本知名的半导体设备大厂预计也将受到影响。 传统的封装过程用不到光刻机，只有晶圆级的先进封装才会用到光刻机。 相对于IC制造用光刻机，封装所用光刻机的研发难度要小很多，市场空间也更小，但后发的光刻机厂商可以先在封装领域进行积累。
例如近年来接连告捷的中国大火箭、载人航天以及地外天体探测项目，汇总起来便是其中的载人航天与探月工程专项；国产大客机的C919项目乃至于预研中的C929项目，合并便是国产大型飞机专项。 现在有不小的可能，这项关系到极端情况下芯片能否完全国产化的重大项目，将会延期至2022年——甚至更晚一些的时候。 换而言之，此前业界担心的“美国施压荷兰政府，将对华禁售的阿斯麦光刻机从最先进的极紫外光刻机（EUV）扩展至相对成熟的DUV（ArFi）深紫外光刻机（DUV）”，可以暂时解除了。 显然，在这个统计数据当中，根本都没将上海微电子统计进去。
上海微電子 duv: 科技要闻
国产DUV光刻机完成认证据报道，国产光刻机巨头上海微电所研发的首台国产28nm光刻机已经完成了认证，并且今年年底将实现量产。 28nm光刻机是深紫光刻机，也就是DUV光刻机，不仅能实现28nm、14nm工艺芯片的量产，同时还可以通过多次曝光的方式，实现非EUV 7nm工艺芯片的生产，这也意味着，从今年年底或明年年初，我国将进入中高端芯片量产时代。 在芯片市场，14nm芯片是一个成熟工艺和先进工艺的分界点，现阶段，28nm、55nm工艺芯片在市场需求中所占的比例非常高，而随着消费者的要求越来越高，14nm工艺芯片的市场需求正在快速增长。 紫光在2013年7月至2015年6月，完成展讯通信、锐迪科微电子两起并购，并收购了惠普旗下新华三集团的51%股权；同时，长电科技、国有企业建广资产管理公司也陆续发起了芯片相关收并购。 如今，中芯国际仍然是中国市场上规模最大、制程最先进的芯片制造厂商，不过，如果以中芯近期传出将于2019年下半年量产14nm工艺制程的消息看，这仍比台积电正在试产5nm制程的水平落后2代。 以被称为“集成电路最关键领域”的光刻机为例，早在20年前，即不断传出中国自主研发光刻机的各类消息，但迄今为止，仍未能生产出拥有先进制程的光刻机。
随后，ASML在2007年收购美国Brion，获取了光刻技术后，成功开启并购美国光刻企业之路。 193nm的光经过折射后，等效波长为134nm，从而实现比F2光源更高的分辨率。 由于F2光源无法穿透水，因此无法和浸没式技术相结合，进一步提升分辨率。 近期有報導指出，上海微電子裝備可望在2021年第4季交付第二代深紫外光微影設備。 該設備可使用28nm製程生產晶片，並使用中國大陸和日本製零組件，而不依… 上海微電子 duv 目前以DUV設備應用最廣、需求也最大；僅台積電、三星等少數具7奈米及其以下製程能力業者，才會使用EUV。
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目前最先进的设备是600系列微影机，可用于使用0.28微米、0.11微米和0.09微米处理技术制造芯片。 据业界消息，上海微电子装备可望在2021年第4季交付第二代深紫外光微影设备。 该设备可使用28nm制程生产芯片，且零组件均采用中国大陆和日本制，而不依赖美国，为中国半导体产业摆脱对美国的依赖跨出重要一步。 有资料显示，在国产90纳米光刻机基础上要想更进一步，就需要全球最顶尖的物镜以及光源，这些零部件哪怕ASML也无法生产，需要依赖德国蔡司及美国Crymer等企业。 没有这些最优秀的零部件供应商，目前还没有任何一家企业、任何一个国家可以独自生产制造7纳米工艺芯片以下的光刻机。 显然，富士康在青岛的半导体封测项目引入的“光刻机”，并不是什么“28nm光刻机”，因为目前上海微电子量产的最先进的仍是只能用于90nm左右的芯片的制造。
而光也有很多种，按光的波长来划分有可见光、红外光、激光、紫外光、X光等。 上海微電子 duv 根据亚化咨询数据显示，2020年所公开的招中标信息中，上海微电子已共计中标2台半导体用光刻机，将分别供应给上海积塔半导体和中芯绍兴。 更何况，ASML也曾明确表示，国内厂商在光刻机技术方面进步很快，不出10年，或者ASML就会全面退出国内市场了。 而在该领域内，ASML已经耕耘多年，结果在此次招标过程中，其依旧没有获得订单，4台订单均被上海微电子获得，这必然会促使其获得更多其它厂商的订单。
上海微電子 duv: 汽车要闻
华卓精科的招股书显示，华卓精科还对双工件台技术进一步进行纵向延伸，突破了当前业内先进的六自由度磁浮微动台技术，实现了对微动台高阶柔性模态的抑制，使其运动精度优于2nm，大大提高了双工件台的分辨率。 但是浸没液体相比于传统气体介质具有较高粘度，粘性力的增强，使得压力驱动下浸没液体对投影物镜的作用力将变得越来越不可忽视。 在光源波长及k1不变的情况下，要想提升分辨率，则需要提升n或者sinθ值。
SK海力士子公司「SK海力士系統IC」最近與無錫工業發展集團合作，在中國啟動代工業務，但其工藝開發可能亦會受到美國限制。 〔財經頻道／綜合報導〕在前朝川普政府時，便已經禁止向中國出口EUV設備，而美國人工智慧（AI）國家安全委員會（NSCAI）上月建議也該禁向中國出口DUV（深紫外光）光刻機等的半導體製造設備，對此三星電子、SK海力士等韓廠現在已表達擔憂。 微影設備是利用光線的波長來加工精密尺寸的晶片，又稱蝕刻機、光刻機；波長不同效率差很大。 最早是使用汞燈產生的紫外光源，再來是深紫外光源（Deep 上海微電子 duv Ultraviolet；DUV），波長可從365奈米縮減到193奈米；最新技術的極紫外光源（Extreme Ultraviolet；EUV），更將波長縮減至13.5奈米。 ；另外，光学系统数值孔径需要变大，由原来90nm光刻机的NA 0.75提升到NA 1.35，这其中需要加入具有特别构造的镜片；运动平台速度也要更快。 上週在中國國際進口博覽會現場，半導體設備巨頭 ASML 展出可用於 7 奈米以上先進製程的深紫外曝光機 DUV。
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有内部前员工爆料，上微上来一个新的总经理，直接抢夺管理层公司股份，老的骨干基本走光。 新来的研发人员工资极低，像韭菜一茬接一茬，在那边混2年经验就走。 中国vs外国，是中文互联网社区内一个烂大街的老哏，指的是不少人但凡涉及到中外对比，总要集全世界其他国家的一切精华，拿来和中国进行对标。 思特威重磅推出首颗线阵CMOS图像传感器，赋能工业线阵相机应用思特威重磅推出首颗LA（Linear）线阵系列4K分辨率高速工业CMOS图像传感器——SC430LA。 宝马AI“超级大脑”上线，驱动在华数字化发展近日，宝马率先在华部署了代号为“灯塔”（BEACON）的人工智能（AI）平台，提供AI应用创新相关的开发、部署、集成与运行服务的平台化环境，加速实现多业务场景数字化。 目前尼康和ASML的DUV光刻机可以实现的晶体管特征线宽不低于10nm。
其中ASML 在中高端光刻机市场更是一家独大，且是全球唯一家拥有可以被用于7nm以下工艺制程的EUV光刻机的供应商。 近几年来，随着先进制程的持续推进，ASML凭借其独家拥有的售价超1亿美元的EUV光刻机，使得其在光刻机市场销售份额持续提升。 其实早在2020年6月的时候，网上就曾传出过国产“28nm光刻机”即将在2020年年底交付的传闻，当时芯智讯根据某开发区发布的新闻稿当中也找到了相关的信息，称“到2020年产品将与整机单位共同完成28nm国产光刻机的集成工作”。 但是，到了2020年年底，上海微电子的28nm光刻机并未入传闻那样实现交付。 消息称，上海微电子有望今年下线最新一代光刻机，其能够用于生产制造10nm以上的芯片，类似ASML的DUV光刻机，都是采用深紫外光源。
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所以在可以预计的未来，只要掌握了28nm制程技术，就意味着可以解决除少数核心处理器外，绝大多数常规中低端部件的生产和制造。 在全部十六个专项中，除去三个涉及国防的保密项外，力争关键“电子器件、芯片制造和相关软件产品”自主的系列专项位列榜首，是之为“01专项”，即所谓的建立完全自主的“核高基”体系。 在十五年前的2006年，全国人大通过了名为《国家科技重大专项（2006－2020）》的系列国家主导重大工程决议。 计划由国家力量来主导，以2020年为节点，推进被归纳为十六个大项的重大战略产品、关键共性技术和重大工程系列。
正如前面所提到的，光刻机涉及到非常多的零部件，其中上海微电子主要是负责系统集成工作，更多的核心零部件则都是由其他的国产供应商来供应。 只要其中一个核心部件没有搞定，那么“28nm光刻机”就难以成功。 另据芯智讯了解，中芯国际此前也曾采购过一台上海微电子的SSX600系列光刻机，不过不知是何原因，该光刻机没有被应用到产线上。 上海微電子 duv 上海微電子 duv 当然,鉴于这个消息并不是官方消息,也不一定是真的,但相信绝大部分人都愿意相信这是真的,因为一旦真的可以搞定DUV光刻机,用于28nm工艺了,那么也就意味着在28nm这个阶段,差不多可以实现全国产了,这是中国芯的一大步啊。
上海微電子 duv: 上海微电子到底能不能做出28纳米能力的DUV？
现阶段，受《瓦森纳协定》限制，荷兰政府禁止ASML对华出口极紫外光刻机（使用13．4nm极紫外光源）。 但受目前已经能自主生产的SSA600／20（90nm），以及本次未通过验收的SSA800／10之惠，各类使用193nm深紫外光源（DUV）光刻机，却并未被列入（或者说已经被剔除出了）禁运目录。 上海微电子负责光刻机设计和总体集成，北京科益虹源提供光源系统，北京国望光学提供物镜系统，长春国科精密提供曝光光学系统，北京华卓精科提供双工件台，浙江启尔机电提供浸液系统。 ASML 周三公布了创纪录的收入和利润，尽管个人电脑和智能手机销售放缓，但对芯片生产设备的需求创下纪录，2022年第三季度，ASML实现了净销售额58亿欧元，毛利率为51.8%，净利润达17亿欧元。 今年第三季度新增订单金额创历史新高，达到89亿欧元，销售了80台新的光刻系统和6台二手光刻机，包括12台EUV设备(与第二季度一致)和74台DUV机器(少于第二季度的79台)。 从目前来看，如果上海微电子的“28nm光刻机”确实遭遇了难题，那么除了上海微电子自身的系统集成问题之外，浸润单元或者关键子系统可能也没完全准备好。
本次刷新世界纪录的“云鸮”扑翼式无人机采用了高升力大推力柔性扑动翼设计、高效仿生驱动系统设计和微型飞控导航一体化集成等关键技术，翼展 1.82m，空载起飞重量为 1kg，手抛起飞，滑翔降落，能够按设定航线自主飞行，飞行过程中能实时变更航线。 因为不同光源的光刻机都有自己的分辨率极限，而且光刻机对芯片的制造非常重要。 上海微電子 duv 光刻每提升一个阶段，光源的波长就下降一个档次，刻出的集成电路图形也更精细，同样硅片上容纳的晶体管就更多，性能会更强。